1.激光模块(型号:4022.455.16632)
核心功能:
高精度:支持微纳米级别精度,满足半导体制造需求。
高功率输出:确保光刻工艺高效进行,提升芯片产能。
稳定性:长期运行中保持激光输出一致性,保障生产结果可靠性。
波长选择:适应不同材料和工艺需求,支持灵活配置。
光学技术:采用先进光学设计,实现高分辨率光刻。
应用场景:
半导体光刻、薄膜沉积、刻蚀等工艺的激光光源。
1.激光模块(型号:4022.455.16632)
核心功能:
高精度:支持微纳米级别精度,满足半导体制造需求。
高功率输出:确保光刻工艺高效进行,提升芯片产能。
稳定性:长期运行中保持激光输出一致性,保障生产结果可靠性。
波长选择:适应不同材料和工艺需求,支持灵活配置。
光学技术:采用先进光学设计,实现高分辨率光刻。
应用场景:
半导体光刻、薄膜沉积、刻蚀等工艺的激光光源。