ASML 4022.488.17101

1.光子检测架构

超低温探测器阵列:

单光子雪崩二极管(SPAD):工作温度4.2K,暗计数率≤0.1Hz/cm²。

量子效率(QE):EUV波段≥25%,深紫外波段≥40%,可见光波段≥90%。

多模态光路设计:

分光系统:基于超晶格薄膜的波长分离效率≥99.8%。

抗反射涂层:反射率≤0.1%(13.5nm波段)。

2.智能分析算法

实时光谱解析:

波长分辨力:EUV波段≤0.01nm,深紫外波段≤0.005nm。

时间分辨力:单光子到达时间误差≤10ps。

分类: 品牌:

描述

产品简要说明

ASML 4022.488.17101是ASML为High NA EUV光刻机开发的极端环境光子计数器,专为3nm及以下先进制程设计。其核心功能包括:

单光子级灵敏度:检测下限≤0.01光子/脉冲,信噪比≥1e6。

多模态光谱分析:支持EUV(13.5nm)、深紫外(193nm)及可见光(400-700nm)三波段同步检测。

动态自校准系统:温度漂移补偿效率≥99.99%,磁场干扰抑制≥120dB。

产品详细说明

1.光子检测架构

超低温探测器阵列:

单光子雪崩二极管(SPAD):工作温度4.2K,暗计数率≤0.1Hz/cm²。

量子效率(QE):EUV波段≥25%,深紫外波段≥40%,可见光波段≥90%。

多模态光路设计:

分光系统:基于超晶格薄膜的波长分离效率≥99.8%。

抗反射涂层:反射率≤0.1%(13.5nm波段)。

2.智能分析算法

实时光谱解析:

波长分辨力:EUV波段≤0.01nm,深紫外波段≤0.005nm。

时间分辨力:单光子到达时间误差≤10ps。

异常信号识别:

基于深度学习的噪声过滤,误报率≤0.001%。

多模态信号关联分析,检测灵敏度提升300%。

3.极端环境适配

真空与辐射兼容性:

工作真空度:1e-8 Pa,漏率≤1e-11 Pa·m³/s。

EUV辐射耐受性:累计吸收剂量≥1e6 J/cm²,性能衰减≤5%。

热管理:

液氦循环冷却系统,探测器温控精度≤0.0001K。

热应力补偿效率≥99.9%(1e-3℃温变)。

技术规格:ASML 4022.488.17101

参数项规格描述

检测灵敏度≤0.01光子/脉冲(EUV波段)

多模态支持EUV(13.5nm)、深紫外(193nm)、可见光(400-700nm)

环境适应性温度:4.2K~80℃;磁场:<1μT;真空度:<1e-8 Pa

Product brief description

ASML 4022.488.17101 is an extreme ambient photon counter developed by ASML for High NA EUV lithography machines,designed for advanced processes 3nm and below.Its core functions include:

Single-photon level sensitivity:detection lower limit≤0.01 photon/pulse,signal-to-noise ratio≥1e6.

Multimodal spectral analysis:supports three-band synchronous detection of EUV(13.5nm),deep ultraviolet(193nm)and visible light(400-700nm).

Dynamic self-calibration system:temperature drift compensation efficiency≥99.99%,magnetic field interference suppression≥120dB.

Product details

1.Photon detection architecture

Ultra-low temperature detector array:

Single-photon avalanche diode(SPAD):operating temperature 4.2K,dark count rate≤0.1Hz/cm².

Quantum efficiency(QE):EUV band≥25%,deep ultraviolet band≥40%,and visible light band≥90%.

Multimodal optical path design:

Spectroscopic system:The wavelength separation efficiency based on superlattice film is≥99.8%.

Anti-reflective coating:reflectivity≤0.1%(13.5nm band).

2.Intelligent analysis algorithm

Real-time spectral analysis:

Wavelength resolution:EUV band≤0.01nm,deep ultraviolet band≤0.005nm.

Time resolution:The arrival time error of single photon is≤10ps.

Abnormal signal recognition:

Noise filtering based on deep learning,the false alarm rate is≤0.001%.

Multimodal signal correlation analysis,detection sensitivity is improved by 300%.

3.Extreme environment adaptation

Vacuum and radiation compatibility:

Working vacuum degree:1e-8 Pa,leakage rate≤1e-11 Pa·m³/s.

EUV radiation tolerance:cumulative absorbed dose≥1e6 J/cm²,performance attenuation≤5%.

Thermal management:

Liquid helium circulation cooling system,detector temperature control accuracy≤0.0001K.

Thermal stress compensation efficiency is≥99.9%(1e-3℃temperature change).

Technical specifications:ASML 4022.488.17101

Parameters Specification Description

Detection sensitivity≤0.01 photon/pulse(EUV band)

Multimodal support EUV(13.5nm),deep ultraviolet(193nm),visible light(400-700nm)

Environmental adaptability Temperature:4.2K~80℃;Magnetic field:<1μT;Vacuum degree:<1e-8 Pa