402233010044 ASML

1.技术架构与创新

模块化设计:

可扩展电源模块:支持热插拔更换,维护时间≤5分钟。

数字信号处理(DSP):实时监控电流波动,响应延迟<1ms。

散热系统:

主动散热技术:采用液冷与风冷双模式,热阻≤0.2℃/W。

冗余电源设计:双路供电保障,故障切换时间<50ms。

2.工艺适配性

半导体制造应用:

光刻机电源支持:为EUV光刻机提供稳定电流,确保曝光精度≤0.1nm(RMS)。

晶圆传输系统:驱动高精度机械臂,定位误差≤5μm。

工业自动化应用:

机器人动力控制:支持多轴同步运动,电流稳定性≥99.99%。

传感器供电:低噪声输出(<50mVpp),避免信号干扰。

3.行业应用案例

台积电3nm产线:2025年部署后,光刻机故障率降低30%,产能提升15%。

特斯拉超级工厂:用于电池检测设备,电流控制精度提升40%。

西门子医疗设备:支持MRI扫描仪,能耗降低25%。

技术规格:ASML 402233010044

分类: 品牌:

描述

产品简要说明

ASML 402233010044是一款高可靠性电源驱动单元,专为精密工业设备设计,具备动态电流调节与高效能电力输出能力。其核心功能包括:

智能电力分配:支持多通道独立控制,电流精度达±0.5%。

宽电压适配:兼容12V-48V直流输入,输出功率范围200W-1500W。

工业级防护:IP67防护等级,适应高温(-40℃至85℃)与高湿度环境。

产品详细说明

1.技术架构与创新

模块化设计:

可扩展电源模块:支持热插拔更换,维护时间≤5分钟。

数字信号处理(DSP):实时监控电流波动,响应延迟<1ms。

散热系统:

主动散热技术:采用液冷与风冷双模式,热阻≤0.2℃/W。

冗余电源设计:双路供电保障,故障切换时间<50ms。

2.工艺适配性

半导体制造应用:

光刻机电源支持:为EUV光刻机提供稳定电流,确保曝光精度≤0.1nm(RMS)。

晶圆传输系统:驱动高精度机械臂,定位误差≤5μm。

工业自动化应用:

机器人动力控制:支持多轴同步运动,电流稳定性≥99.99%。

传感器供电:低噪声输出(<50mVpp),避免信号干扰。

3.行业应用案例

台积电3nm产线:2025年部署后,光刻机故障率降低30%,产能提升15%。

特斯拉超级工厂:用于电池检测设备,电流控制精度提升40%。

西门子医疗设备:支持MRI扫描仪,能耗降低25%。

技术规格:ASML 402233010044

参数项规格描述

输入电压12V-48V DC

输出功率200W-1500W

电流精度±0.5%

防护等级IP67

工作温度-40℃至85℃

Product brief description

ASML 402233010044 is a high-reliability power drive unit designed for precision industrial equipment,with dynamic current regulation and high-efficiency power output capabilities.Its core functions include:

Intelligent power distribution:supports multi-channel independent control,with current accuracy up to±0.5%.

Wide voltage adaptation:compatible with 12V-48V DC input,output power range 200W-1500W.

Industrial protection:IP67 protection level,adapted to high temperature(-40℃to 85℃)and high humidity environments.

Product details

1.Technical Architecture and Innovation

Modular design:

Extended power module:supports hot-swap replacement,maintenance time≤5 minutes.

Digital signal processing(DSP):monitor current fluctuations in real time,and the response delay is<1ms.

Heat dissipation system:

Active heat dissipation technology:adopts dual modes of liquid cooling and air cooling,with thermal resistance≤0.2℃/W.

Redundant power supply design:dual-channel power supply guarantee,failover time<50ms.

2.Process adaptability

Semiconductor manufacturing applications:

The lithography machine power supply support:provides stable current for EUV lithography machines to ensure exposure accuracy≤0.1nm(RMS).

Wafer transmission system:drives high-precision robotic arm,positioning error≤5μm.

Industrial automation applications:

Robot power control:supports multi-axis synchronous motion,with current stability≥99.99%.

Sensor power supply:low noise output(<50mVpp)to avoid signal interference.

3.Industry application cases

TSMC’s 3nm production line:After deployment in 2025,the failure rate of lithography machines will be reduced by 30%and the production capacity will be increased by 15%.

Tesla Super Factory:used for battery detection equipment,and the current control accuracy is increased by 40%.

Siemens Medical Equipment:Supports MRI scanners and reduces energy consumption by 25%.

Technical specifications:ASML 402233010044

Parameters Specification Description

Input voltage 12V-48V DC

Output power 200W-1500W

Current Accuracy±0.5%

Protection level IP67

Operating temperature-40℃to 85℃

Response time<1ms