描述
产品说明：
ZYGO ZMI-4104是一款基于干涉原理的高精度光学测量设备，采用ZYGO ZMI系列激光源驱动，能够实现亚纳米级的测量精度 该设备广泛应用于精密工程、科学研究、半导体制造、光学测量等领域，特别是在需要高精度位置和位移测量的场合中表现出色
产品参数：
测量精度：小于0.25µm，分辨率为0.1nm
测量范围：+100µm，适用于多种应用场景
光源类型：ZYGO ZMI系列激光源
板卡类型：6U VME或6U VME64x，支持模块化扩展至64个测量轴
兼容性：兼容7705、7704、7712和7714等激光器
产品规格：
ZYGO ZMI-4104具有高采样率、宽输入范围和高稳定性，同时具备低噪声性能，确保测量结果的准确性 其设计支持模块化扩展，可安装在VME或VME64x机箱中，以满足不同测量需求
系列：
ZYGO ZMI-4104属于ZYGO ZMI系列，该系列还包括其他型号如ZMI-2002和ZMI-501等，均支持高精度测量
特征：
高精度测量：误差小于0.25µm，分辨率达到0.1nm，适用于纳米级精密测量
模块化设计：支持多轴扩展，最多可扩展到64个测量轴，适用于复杂的测量需求
高稳定性：设备设计稳定，能够适应各种环境条件，确保测量结果的可靠性
快速测量：最大测量速度为10mm/s，适合动态测量需求
数字信号输出：支持多种数据接口，便于与控制系统和数据采集系统集成
作用与用途：
ZYGO ZMI-4104主要用于高精度位移测量和控制系统，特别是在以下领域：
半导体制造：用于测量晶圆的厚度、形貌等参数
光学测量：测量光学元件的表面形貌和波前误差
精密加工：用于精密加工中的位移测量和控制，如机械加工、航空航天等
科学研究：支持科学研究中的高精度测量需求
应用领域：
ZYGO ZMI-4104广泛应用于多个领域，包括但不限于：
半导体制造：用于晶圆检测和加工
光学制造：用于测量光学元件的表面形貌和波前误差
航空航天：用于精密测量和控制系统
精密机械加工：用于机械加工和自动化设备中的位移测量
